- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
緊湊型等離子清洗機(jī)主要特點(diǎn):
1.使用各種氣體清洗和去除晶片上的納米級(jí)有機(jī)污染物,至多可容納2"。
2.涂層前預(yù)清洗單晶基板的優(yōu)良工具,可獲得更好的薄膜質(zhì)量。
3.鉸鏈?zhǔn)介T(mén),便于樣品裝載。
4.3"直徑石英腔室,適用于清潔2”晶圓,可選配石英舟。
5.石英室內(nèi)的可移動(dòng)石英管易于清潔和更換。
緊湊型等離子清洗機(jī)技術(shù)參數(shù):
主要部件
指標(biāo)名稱(chēng)
參數(shù)指標(biāo)
清洗倉(cāng)體
清洗倉(cāng)材質(zhì)
高純石英
清洗倉(cāng)尺寸
直徑120mm;長(zhǎng)度280mm
射頻電源
電源特性
該電源為全固態(tài)射頻電源,采用高穩(wěn)定高可靠的功放模塊和直流模塊,有效保障了電源的射頻功率輸出。采用高質(zhì)量的電子元器件,使產(chǎn)品的可靠性得以保證。
電源優(yōu)勢(shì)
● 可長(zhǎng)時(shí)間正常運(yùn)行
● 電源效率高、發(fā)熱少
射頻功率
0~100W連續(xù)可調(diào)/0~150W連續(xù)可調(diào)
信號(hào)頻率
13.56MHz ±0.005%
反射功率
≤200W
功率穩(wěn)定度
±0.1%
射頻接頭
N型頭
整機(jī)效率
≥75%
諧波分量
≤-50 dBc
冷卻方式
強(qiáng)制風(fēng)冷
氣體測(cè)量
測(cè)量部件
浮子流量計(jì)
氣體通道
兩通道
A通道量程
10~100ml
B通道量程
16~160ml
真空獲取
真空測(cè)量
數(shù)字真空計(jì)(電阻規(guī))
真空抽取
雙極旋片泵
電機(jī)轉(zhuǎn)速
50Hz時(shí)為:1440;60Hz時(shí)為:1720。
抽氣速率
50Hz時(shí)為:1.1L/s;60Hz時(shí)為:1.3L/s。
真空量程
1Pa~100000Pa
極限真空1
Pa
電機(jī)噪音
≤56dB
管道接口
進(jìn)氣口:KF16;排氣口KF16.
連接管道
KF16真空波紋管
真空閥門(mén)
電磁閥
電機(jī)功率
400W
其它
供電電源
AC220V 50/60Hz
整機(jī)功率
1000W/1500W
使用溫度
-10℃--40℃
工作真空
≤40Pa
整機(jī)尺寸
540mm×650mm×600mm
整機(jī)重量
78kg
● 操作簡(jiǎn)單靈活
● 具有完善的反射功率保護(hù)功能
免責(zé)聲明:本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等),僅供參考。可能由于更新不及時(shí),會(huì)造成所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異,請(qǐng)與本公司銷(xiāo)售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,本公司會(huì)不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請(qǐng)您見(jiàn)諒。