- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
大氣低溫等離子清洗機優勢:
等離子清洗作為重要的材料表面改性方法,已經在眾多領域廣泛使用。具有以下優點:
1.處理溫度低
處理溫度可以低至80℃、50℃以下,低的處理溫度可以確保對樣品表面不造成熱影響。
2.處理全程無污染
等離子清洗機本身是很環保的設備,不產生任何污染,處理過程也不產生任何污染。
可以與原有生產流水線搭配,實現全自動在線生產,節約人力成本。
3.處理效果穩定
等離子清洗的處理效果非常均勻穩定,常規樣品處理后較長時間內保持效果良好。
大氣低溫等離子清洗機結構:
等離子清洗機的結構主要分為三大組成部分,分別是高壓激勵電源、等離子發生裝置噴槍、控制系統。
1.高壓激勵電源:
等離子體的產生需要高壓激勵,大氣低溫等離子采用中頻電源進行激勵,頻率在10-40KHz。高壓則在4-10KV。參數根據樣品實際情況可進行調節,已達到zui優的改性效果。
2.等離子發生裝置噴槍:
大氣低溫等離子發生裝置噴槍,可分為射流直噴和旋轉直噴兩種,區別在于處理面積不同。
3.控制系統:
控制系統作用在于控制整個大氣低溫等離子清洗設備的運行,以及整體系統的保護。
大氣低溫等離子清洗機技術規格:
系統標準配件
設備尺寸
560W * 186D *452Hmm
重量
20KG
輸入電源
220V,50/60Hz
功率
1000W可調
高壓頻率
10-40KHz
保護防護
過載保護、短路保護、斷路保護、溫度保護
遠程控制
本地控制與遠程控制均可
噴槍選擇
直噴噴槍
2mm、5mm
磁懸浮旋轉電機噴槍
50mm、70mm
免責聲明:本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等),僅供參考。可能由于更新不及時,會造成所述內容與實際情況存在一定的差異,請與本公司銷售人員聯系確認。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,本公司會不定期完善和修改網站任何信息,恕不另行通知,請您見諒。